原理：

聚焦离子束（focused-ion-beam, FIB）技术的基本原理是在电场和磁场的作用下，将离子束聚焦到亚微米甚至纳米量级，通过偏转和加速系统控制离子束扫描运动，实现微纳图形的监测分析和微纳结构的无掩模加工。

作用：

1.产生二次电子信号取得电子像.此功能与SEM（扫描电子显微镜）相似；

2.用强电流离子束对表面原子进行剥离,以完成微、纳米级表面形貌加工。

3.通常是以物理溅射的方式搭配化学气体反应，有选择性的剥除金属，氧化硅层或沉积金属层。

结构：

聚焦离子束系统从本质上讲与电子束曝光系统一样，由离子发射源、离子光柱、工作台、真空与控制系统等结构组成。